鎢靶材經常作為物理氣相沉積用濺射靶材，在半導體領域用于制作柵電極、連接布線、擴散阻擋層等。鎢靶材主要應用于航天、稀土冶煉、電光源、化工設備、醫(yī)療器械、冶金機械、熔煉設備、石油、等領域。

其中，純鎢靶材主要用作金屬層間的通孔和垂直接觸的接觸孔的填充物，即鎢塞。而鎢合金靶材，如WSi2，主要用在柵極多晶硅的上部作為多晶硅硅化物結構和局部互聯(lián)線。隨著半導體芯片尺寸越來越小，銅互連尺寸的縮小導致納米尺度上電阻率的增加，這已成為制約半導體工業(yè)發(fā)展的一個技術瓶頸。有研究表明，難熔金屬鎢有望取代銅成為下一代的半導體布線金屬材料。

鎢靶材的特點：

噴涂、燒結后的鎢靶,具有99%的密度甚至更高、平均透明紋理的直徑為100um甚至更小、含氧20ppm或更少，偏轉角力為500Mpa左右的特性；提高未加工金屬粉末的生產，提高燒結的能力，可以使鎢靶的成本穩(wěn)定在一個低價位。燒結后的鎢靶密度高，具有傳統(tǒng)的壓制燒結方法所無法達到的高水準的透明框架，并且明顯改善了偏轉角力，以致顆粒物顯著的減少。

鎢靶材的物理性質：

元素符號： W

原子序數： 74

鎢有兩種變型，α和β。在標準溫度和常壓下，α型是穩(wěn)定的體心立方結構。β型鎢只有在有氧存在的條件下才能出現。它在630以下是穩(wěn)定的，在630以上又轉化為α鎢，并且這一過程是不可逆的。

純度：鎢99.95%以上

密度：19.35g/cm3

表面狀態(tài)：磨光或堿洗